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高兆兰讲座十一(10月31日 15:00-16:30)

報告人: 
任文才 研究员(中科院沈阳金属所)
題目: 
Graphene Films: CVD Growth and PromisingApplications
地點: 
十友堂300
時間: 
10月31日 15:00-16:30

主持人:賴天樹教授

報告簡介:爲了使石墨烯的面內性質能夠最大程度的在宏觀尺度應用,石墨烯薄膜是至關重要的。石墨烯薄膜能夠直接由化學氣相沈積(CVD)生長或由石墨烯/氧化石墨烯納米薄片組裝。本報告中將首先介紹CVD生長的石墨烯薄膜的顆粒尺寸和層數控制、摻雜和清潔轉移,演示石墨烯薄膜在柔性OLED中的應用。然後,介紹具有可控排列和密實的氧化石墨烯薄膜的合成,演示它們在高性能納米過濾膜,超強高導電紙,電磁幹擾屏蔽膜和具有創紀錄的體能密度柔性超級電容方面的應用。

報告人簡介:任文才,中国科学院金属研究所研究员,国家杰出青年科学基金获得者。主要从事石墨烯等二维材料的制备及其在光电、储能、复合材料等领域的应用研究。在Nature Materials等期刊发表SCI论文130多篇,被SCI引用22,000多次,是材料领域高被引学者;获授权发明专利40余项(含4项国际专利),2项已产业化。曾获国家自然科学二等奖(2017,2006)、何梁何利基金科学与技术创新奖、辽宁省自然科学一等奖、中国青年科技奖、中国科学院青年科学家奖等奖项,并入选了科技部创新人才推进计划中青年科技创新领军人才和国家“万人计划”科技创新领军人才。